【O】商标详情
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- G958760
- 已销亡
- 普通商标
- 2008-05-14
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-多晶硅,
0101-多晶硅大块,
0101-多晶硅棒,
0101-多晶硅粉,
0101-工业化学品,
0101-硅,
0102-一氧化硅,
0102-三氯氢硅,
0102-二氧化钛,
0102-二氧化钛粉末,
0102-光催化剂,
0102-光催化剂溶剂,
0102-四氯化硅,
0102-四氯化钛,
0102-工业化学品,
0102-形成沉淀薄膜的金属氧化物,
0102-氧化硅,
0102-氧化硅粉,
0102-氧化钛,
0102-氯化镁,
0102-汽相淀积的金属氧化物,
0102-溅射靶用的金属氧化物,
0102-稀释的四氯化钛,
0103-工业化学品,
0104-以氧化钛为原料的涂层材料,
0104-光催化剂,
0104-光催化剂溶剂,
0104-工业化学品,
0104-溅射靶
0101-多晶硅;0101-多晶硅大块;0101-多晶硅棒;0101-多晶硅粉;0101-工业化学品;0101-硅;0102-一氧化硅;0102-三氯氢硅;0102-二氧化钛;0102-二氧化钛粉末;0102-光催化剂;0102-光催化剂溶剂;0102-四氯化硅;0102-四氯化钛;0102-工业化学品;0102-形成沉淀薄膜的金属氧化物;0102-氧化硅;0102-氧化硅粉;0102-氧化钛;0102-氯化镁;0102-汽相淀积的金属氧化物;0102-溅射靶 用的金属氧化物;0102-稀释的四氯化钛;0103-工业化学品;0104-以氧化钛为原料的涂层材料;0104-光催化剂;0104-光催化剂溶剂;0104-工业化学品;0104-溅射靶 - 2007-09-19-2017-09-19
- OSAKA TITANIUM TECHNOLOGIES CO.，LTD.
- 兵库尼崎市************
- 国际局
2018-09-05 国际注销 | 申请收文
2015-09-24 商标注册申请 | 撤销连续三年停止使用注册商标申请完成
2014-04-18 商标注册申请 | 撤销三年不使用待审中
2014-04-18 商标注册申请 | 撤销连续三年停止使用注册商标中
2009-03-23 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2009-03-23 领土延伸 | 审查
2008-05-14 领土延伸 | 申请收文
注册商标撤销公告 2016-04-20 第1500期 查看公告
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0101-多晶硅大块,
0101-多晶硅棒,
0101-多晶硅粉,
0101-工业化学品,
0101-硅,
0102-一氧化硅,
0102-三氯氢硅,
0102-二氧化钛,
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0102-四氯化钛,
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0102-形成沉淀薄膜的金属氧化物,
0102-氧化硅,
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0102-汽相淀积的金属氧化物,
0102-溅射靶用的金属氧化物,
0102-稀释的四氯化钛,
0103-工业化学品,
0104-以氧化钛为原料的涂层材料,
0104-光催化剂,
0104-光催化剂溶剂,
0104-工业化学品,
0104-溅射靶
0101-多晶硅;0101-多晶硅大块;0101-多晶硅棒;0101-多晶硅粉;0101-工业化学品;0101-硅;0102-一氧化硅;0102-三氯氢硅;0102-二氧化钛;0102-二氧化钛粉末;0102-光催化剂;0102-光催化剂溶剂;0102-四氯化硅;0102-四氯化钛;0102-工业化学品;0102-形成沉淀薄膜的金属氧化物;0102-氧化硅;0102-氧化硅粉;0102-氧化钛;0102-氯化镁;0102-汽相淀积的金属氧化物;0102-溅射靶用的金属氧化物;0102-稀释的四氯化钛;0103-工业化学品;0104-以氧化钛为原料的涂层材料;0104-光催化剂;0104-光催化剂溶剂;0104-工业化学品;0104-溅射靶 - 2007-09-19-2017-09-19
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