【厚积】商标详情
- 厚积
- 66637332
- 已注册
- 普通商标
- 2022-08-16
4001 , 4015 4001-打磨,
4001-研磨,
4001-研磨抛光,
4015-半导体晶片的加工
4001-打磨;4001-研磨;4001-研磨抛光;4015-半导体晶片的加工 - 1814
- 2022-11-06
- 1826
- 2023-02-07
- 2023-02-07-2033-02-06
- 浙江厚积科技有限公司
- 浙江省嘉兴市************
- 浙江金牌商标代理有限公司
2022-09-01 商标注册申请 | 受理通知书发文
2022-08-16 商标注册申请 | 申请收文
- 厚积
- 66637332
- 已注册
- 普通商标
- 2022-08-16
4001 , 4015 4001-打磨,
4001-研磨,
4001-研磨抛光,
4015-半导体晶片的加工
4001-打磨;4001-研磨;4001-研磨抛光;4015-半导体晶片的加工 - 1814
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- 2023-02-07-2033-02-06
- 浙江厚积科技有限公司
- 浙江省嘉兴市************
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2022-08-16 商标注册申请 | 申请收文
