
【天机】商标详情

- 天机
- 76010162
- 已注册
- 普通商标
- 2023-12-26
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0113 0101-稀土,
0102-氧化铅,
0102-氧化铬,
0102-金属氧化物,
0103-工业用同位素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品
0101-稀土;0102-氧化铅;0102-氧化铬;0102-金属氧化物;0103-工业用同位素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品 - 1895
- 2024-07-13
- 1907
- 2024-10-14
- 2024-10-14-2034-10-13
- 中核(天津)机械有限公司
- 天津市天津市************
- 企力宝(北京)科技有限公司
2024-11-09 商标注册申请 | 注册证发文
2024-07-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-05-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-26 商标注册申请 | 申请收文
- 天机
- 76010162
- 已注册
- 普通商标
- 2023-12-26
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0113 0101-稀土,
0102-氧化铅,
0102-氧化铬,
0102-金属氧化物,
0103-工业用同位素,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中 在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品
0101-稀土;0102-氧化铅;0102-氧化铬;0102-金属氧化物;0103-工业用同位素;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0113-从植物中提取的化妆品工业用化学品 - 1895
- 2024-07-13
- 1907
- 2024-10-14
- 2024-10-14-2034-10-13
- 中核(天津)机械有限公司
- 天津市天津市************
- 企力宝(北京)科技有限公司
2024-11-09 商标注册申请 | 注册证发文
2024-07-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-05-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-23 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-12-26 商标注册申请 | 申请收文
