
【LEXIA】商标详情

- LEXIA
- G1302900
- 已注册
- 普通商标
- 2016-07-14
0726 , 0729 , 0744 , 0754 0726-真空薄膜成型机及其零部件和配件,
0726-真空镀膜机及其零部件和配件,
0729-化学气相沉积机器及其零部件和配件,
0744-半导体生产机械及其零部件和配件,
0754-溅镀机器及其零部件和配件,
0754-真空薄膜成型机及其零部件和配件,
0754-真空镀膜机及其零部件和配件
0726-真空薄膜成型机及其零部件和配件;0726-真空镀膜机及其零部件和配件;0729-化学气相沉积机器及其零部件和配件;0744-半导体生产机械及其零部件和配件;0754-溅镀机器及其零部件和配件;0754-真空薄膜成型机及其零部件和配件;0754-真空镀膜机及其零部件和配件 - 2016-03-11-2026-03-11
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- 东京都东京************
- 国际局
2017-12-21 领土延伸 | 审查
2016-07-14 领土延伸 | 申请收文
- LEXIA
- G1302900
- 已注册
- 普通商标
- 2016-07-14
0726 , 0729 , 0744 , 0754 0726-真空薄膜成型机及其零部件和配件,
0726-真空镀膜机及其零部件和配件,
0729-化学气相沉积机器及其零部件和配件,
0744-半导体生产机械及其零部件和配件,
0754-溅镀机器及其零部件和配件,
0754-真空薄膜成型机及其零部件和配件,
0754-真空镀膜机及其零部件和配件
0726-真空薄膜成型机及其零部件和配件;0726-真空镀膜机及其零部件和配件;0729-化学气相沉积机器及其零部件和配件;0744-半导体生产机械及其零部件和配件;0754-溅镀机器及其零部件和配件;0754-真空薄膜成型机及其零部件和配件;0754-真空镀膜机及其零部件和配件 - 2016-03-11-2026-03-11
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- 东京都东京************
- 国际局
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2016-07-14 领土延伸 | 申请收文
