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0729-化学气相沉积（CVD）设备,

0729-用于上述设备的器械和装置，即，减压控制装置，温度控制装置，转动控制装置，其他控制装置，气体供给装置，废气处理装置，晶片承载装置，晶片搬运机器人，晶片清洗装置，温度测量装置，晶片曲率的测量装置,

0729-金属有机化学气相沉积（MOCVD）设备,

0744-其他的半导体生产设备,

0744-半导体晶片的电解沉积设备,

0744-在半导体晶片上进行复合半导体薄膜成型的设备,

0744-在半导体晶片上进行外延生长的设备,

0744-用于上述产品的零部件、附加装置以及管子,

0744-蚀刻装置