【NEOFARIT】商标详情
- NEOFARIT
- G1372463
- 已注册
- 普通商标
- 2017-11-02
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 0101-工业和科学用化学品,
0102-工业和科学用化学品,
0103-工业和科学用化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0104-工业和科学用化学品,
0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料,
0106-工业和科学用化学品,
0108-工业用未加工塑料
0101-工业和科学用化学品;0102-工业和科学用化学品;0103-工业和科学用化学品;0104-光致抗蚀剂;0104- 工业和科学用化学品;0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料;0106-工业和科学用化学品;0108-工业用未加工塑料 - 2017-07-25-2027-07-25
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY， INC.
- 东京都东京************
- 国际局
2018-11-30 领土延伸 | 审查
2017-11-02 领土延伸 | 申请收文
- NEOFARIT
- G1372463
- 已注册
- 普通商标
- 2017-11-02
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 , 0108 0101-工业和科学用化学品,
0102-工业和科学用化学品,
0103-工业和科学用化学品,
0104-光致抗蚀剂,
0104-工业和科学用化学品,
0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料,
0106-工业和科学用化学品,
0108-工业用未加工塑料
0101-工业和科学用化学品;0102-工业和科学用化学品;0103-工业和科学用化学品;0104-光致抗蚀剂;0104-工业和科学用化学品;0104-用于制造半导体的半导体晶片薄膜沉积用化学原料;0106-工业和科学用化学品;0108-工业用未加工塑料 - 2017-07-25-2027-07-25
- MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY， INC.
- 东京都东京************
- 国际局
2018-11-30 领土延伸 | 审查
2017-11-02 领土延伸 | 申请收文
