【HSN】商标详情
- HSN
- G1490103
- 待审中
- 普通商标
- 2019-10-03
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-工业用化学品,
0101-氟,
0102-工业用化学品,
0102-莹石化合物,
0103-工业用化学品,
0104-工业生产操作部分用清洁剂,
0104-工业用化学品,
0104-用于生产半导体的蚀刻液,
0104-用于生产印刷电路板的蚀刻液,
0104-蚀刻溶液（酸）
0101-工业用化学品;0101-氟;0102-工业用化学品;0102-莹石化合物;0103-工业用化学品;0104-工业生产操作部分用清洁剂;0104-工业用化学品;0104-用于生产半导体的蚀刻液;0104-用于生产印 刷电路板的蚀刻液;0104-蚀刻溶液（酸） - 2019-07-09-2029-07-09
- STELLA CHEMIFA CORPORATION
- 大阪大阪市************
- 国际局
2020-01-01 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2020-01-01 领土延伸 | 驳回电子发文
2019-10-03 领土延伸 | 申请收文
- HSN
- G1490103
- 待审中
- 普通商标
- 2019-10-03
0101 , 0102 , 0103 , 0104 0101-工业用化学品,
0101-氟,
0102-工业用化学品,
0102-莹石化合物,
0103-工业用化学品,
0104-工业生产操作部分用清洁剂,
0104-工业用化学品,
0104-用于生产半导体的蚀刻液,
0104-用于生产印刷电路板的蚀刻液,
0104-蚀刻溶液（酸）
0101-工业用化学品;0101-氟;0102-工业用化学品;0102-莹石化合物;0103-工业用化学品;0104-工业生产操作部分用清洁剂;0104-工业用化学品;0104-用于生产半导体的蚀刻液;0104-用于生产印刷电路板的蚀刻液;0104-蚀刻溶液（酸） - 2019-07-09-2029-07-09
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