
【图形】商标详情

- 图形
- 86875246
- 待审中
- 普通商标
- 2025-08-04
0102 , 0104 , 0108 -半导体制造用蚀刻剂,
-工业用抗静电制剂,
-有机硅树脂,
-玻璃防污剂,
-生产印刷电路板用化学涂层,
-电镀制剂,
-眼镜片用化学涂层,
-纺织品防水化学品,
-脱模制剂,
-表面活性剂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-玻璃防污剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-纺织品防水化学品,
0104-脱模制剂,
0108-有机硅树脂
-半导体制造用蚀刻剂;-工业用抗静电制剂;-有机硅树脂;-玻璃防污剂;-生产印刷电路板用化学涂层;-电镀制剂;-眼镜片用化学涂层;-纺织品防水化学品;-脱模制剂;-表面活性剂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-工业用抗静电制剂;0104-玻璃防污剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-眼镜片用化学涂层;0104-纺织品防水化学品;0104-脱模制剂;0108-有机硅树脂 - 强核新材料(深圳)有限公司
- 广东省深圳市************
- 重庆舰邦信息技术有限公司
2025-09-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-08-04 商标注册申请 | 申请收文
- 图形
- 86875246
- 待审中
- 普通商标
- 2025-08-04
0102 , 0104 , 0108 -半导体制造用蚀刻剂,
-工业用抗静电制剂,
-有机硅树脂,
-玻璃防污剂,
-生产印刷电路板用化学涂层,
-电镀制剂,
-眼镜片用化学涂层,
-纺织品防水化学品,
-脱模制剂,
-表面活性剂,
0102-表面活性剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-工业用抗静电制剂,
0104-玻璃防污剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-眼镜片用化学涂层,
0104-纺织品防水化学品,
0104-脱模制剂,
0108-有机硅树脂
-半导体制造用蚀刻剂;-工业用抗静电制剂;-有机硅树脂;-玻璃防污剂;-生产印刷电路板用化学涂层;-电镀制剂;-眼镜片用化学涂层;-纺织品防水化学品;-脱模制剂;-表面活性剂;0102-表面活性剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-工业用抗静电制剂;0104-玻璃防污剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-眼镜片用化学涂层;0104-纺织品防水化学品;0104-脱模制剂;0108-有机硅树脂 - 强核新材料(深圳)有限公司
- 广东省深圳市************
- 重庆舰邦信息技术有限公司
2025-09-12 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-08-04 商标注册申请 | 申请收文


