【ULFARAD】商标详情
- ULFARAD
- G1065113
- 已注册
- 普通商标
- 2011-02-19
0744 0744-半导体生产机械和设备,
0744-用于生产半导体的化学汽相沉积（化学汽相沉积）的机械和设备,
0744-用于生产半导体的真空沉积机械和设备,
0744-用于生产半导体的真空薄膜成型机械和设备,
0744-用于生产半导体的等离子化学气相沉积机械和设备,
0744-用于生产半导体的阴极真空喷镀机械和设备,
0744-用于生产薄膜电容器的真空沉积机械和设备,
0744-真空沉积机械和设备
0744-半导体生产机械和设备;0744-用于生产半导体的化学汽相沉积（化学汽相沉积）的机械和设备;0744-用于生产半导体的真空沉积机械和设备;0744-用于生产半导体的真空薄膜成型机械和设备;0744-用于生产半导体的等离子化学气相沉积机械和设备;0744-用于生产半导体的阴极真空喷镀机械和设备;0744-用于生产薄膜电容器的真空沉积机械和设备;0744-真空沉积机械和设备 - 2020-10-14-2030-10-14
- ULVAC， INC.
- 神奈川茅崎市************
- 国际局
2020-11-04 国际续展 | 申请核准审核
2020-11-01 国际续展 | 申请收文
2016-06-24 国际部分注销 | 申请收文
2011-10-25 商标注册申请 | 国际部分注销中
2011-10-09 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2011-10-09 领土延伸 | 审查
2011-02-19 领土延伸 | 申请收文
- ULFARAD
- G1065113
- 已注册
- 普通商标
- 2011-02-19
0744 0744-半导体生产机械和设备,
0744-用于生产半导体的化学汽相沉积（化学汽相沉积）的机械和设备,
0744-用于生产半导体的真空沉积机械和设备,
0744-用于生产半导体的真空薄膜成型机械和设备,
0744-用于生产半导体的等离子化学气相沉积机械和设备,
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0744-用于生产薄膜电容器的真空沉积机械和设备,
0744-真空沉积机械和设备
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- 神奈川茅崎市************
- 国际局
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2020-11-01 国际续展 | 申请收文
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2011-10-09 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
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2011-02-19 领土延伸 | 申请收文
