【里斯戴尔】商标详情
- 里斯戴尔
- 10335810
- 已注册
- 普通商标
- 2011-12-21
4209 , 4211 , 4214 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-工程,
4209-技术研究,
4211-化学研究,
4214-材料测试,
4214-纺织品测试,
4216-工业品外观设计,
4217-室内装饰设计,
4218-服装设计,
4220-计算机软件设计,
4227-书画刻印艺术设计
4209-工程;4209-技术研究;4211-化学研究;4214-材料测试;4214-纺织品测试;4216-工业品外观设计;4217-室内装饰设计;4218-服装设计;4220-计算机软件设计;4227-书画刻印艺术设计 - 1337
- 2012-11-27
- 1349
- 2013-02-28
- 2023-02-28-2033-02-27
- 上海欣旺优能材料股份有限公司
- 上海市上海市************
- 上海百一知识产权代理有限公司
2022-12-18 商标续展 | 核准通知打印发送
2022-11-13 商标续展 | 申请收文
2022-04-20 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2022-03-04 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-03-02 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2013-03-18 商标注册申请 | 商标已注册
2013-03-18 商标注册申请 | 打印注册证
2012-10-19 商标注册申请 | 注册申请初步审定
2011-12-28 商标注册申请 | 打印受理通知
2011-12-21 商标注册申请 | 商标注册申请中
2011-12-21 商标注册申请 | 申请收文
- 里斯戴尔
- 10335810
- 已注册
- 普通商标
- 2011-12-21
4209 , 4211 , 4214 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-工程,
4209-技术研究,
4211-化学研究,
4214-材料测试,
4214-纺织品测试,
4216-工业品外观设计,
4217-室内装饰设计,
4218-服装设计,
4220-计算机软件设计,
4227-书画刻印艺术设计
4209-工程;4209-技术研究;4211-化学研究;4214-材料测试;4214-纺织品测试;4216-工业品外观设计;4217-室内装饰设计;4218-服装设计;4220-计算机软件设计;4227-书画刻印艺术设计 - 1337
- 2012-11-27
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2013-03-18 商标注册申请 | 商标已注册
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