【ULTRA ECP GⅢ】商标详情
- ULTRA ECP GⅢ
- 56214999
- 待审中
- 普通商标
- 2021-05-20
0717 , 0744 , 0752 -化学液混合和供给设备,
-半导体晶片处理设备（兆声波清洗设备）,
-半导体晶片处理设备（干法刻蚀设备）,
-半导体晶片处理设备（湿法刻蚀设备）,
-微电子工业设备,
0717-太阳能电池制造设备,
0717-电池机械,
0744-LED显示屏制造设备,
0744-半导体晶片清洗设备,
0744-液晶显示器制造设备,
0744-电子工业设备,
0752-清洗设备,
0752-电动清洁机械和设备
-化学液混合和供给设备;-半导体晶片处理设备（兆声波清洗设备）;-半导体晶片处理设备（干法刻蚀设备）;-半导体晶片处理设备（湿法刻蚀设备）;-微电子工业设备;0717-太阳能电池制造设备;0717-电池机械;0744-LED显示屏制造设备;0744-半导体晶片清洗设备;0744-液晶显示器制造设备;0744-电子工业设备;0752-清洗设备;0752-电动清洁机械和设备 - 盛美半导体设备（上海）股份有限公司
- 上海市上海市************
- 上海专利商标事务所有限公司
2021-08-20 商标注册申请 | 不予受理通知书发文
2021-08-13 商标注册申请 | 等待补正回文
2021-08-13 商标注册申请 | 补正回文
2021-06-23 商标注册申请 | 补正通知发文
2021-05-20 商标注册申请 | 申请收文
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- 56214999
- 待审中
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- 2021-05-20
0717 , 0744 , 0752 -化学液混合和供给设备,
-半导体晶片处理设备（兆声波清洗设备）,
-半导体晶片处理设备（干法刻蚀设备）,
-半导体晶片处理设备（湿法刻蚀设备）,
-微电子工业设备,
0717-太阳能电池制造设备,
0717-电池机械,
0744-LED显示屏制造设备,
0744-半导体晶片清洗设备,
0744-液晶显示器制造设备,
0744-电子工业设备,
0752-清洗设备,
0752-电动清洁机械和设备
-化学液混合和供给设备;-半导体晶片处理设备（兆声波清洗设备）;-半导体晶片处理设备（干法刻蚀设备）;-半导体晶片处理设备（湿法刻蚀设备）;-微电子工业设备;0717-太阳能电池制造设备;0717-电池机械;0744-LED显示屏制造设备;0744-半导体晶片清洗设备;0744-液晶显示器制造设备;0744-电子工业设备;0752-清洗设备;0752-电动清洁机械和设备 - 盛美半导体设备（上海）股份有限公司
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2021-06-23 商标注册申请 | 补正通知发文
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