【HONVEI】商标详情
- HONVEI
- 84874087
- 已注册
- 普通商标
- 2025-04-22
0104 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印 刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-工业用清洁剂,
0104-工业用除垢剂,
0104-水净化用化学品,
0104-消泡剂,
0104-生产加工用除脂剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0104-腐蚀剂,
0104-金属电镀用化学成分,
0104-镀银用银盐溶液
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用废水处理化学品;0104-工业用清洁剂;0104-工业用除垢剂;0104-水净化用化学品;0104-消泡剂;0104-生产加工用除脂剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0104-腐蚀剂;0104-金属电镀用化学成分;0104-镀银用银盐溶液 - 1956
- 2025-10-20
- 1968
- 2026-01-21
- 2026-01-21-2036-01-20
- 深圳市竤纬实业有限公司
- 广东省深圳市************
- 深圳市广诺知识产权服务有限公司
2026-02-11 商标注册申请 | 注册证发文
2026-01-20 商标注册申请 | 排版注册公告
2025-10-22 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2025-10-20 商标注册申请 | 排版初审公告
2025-05-14 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-04-22 商标注册申请 | 申请收文
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- 普通商标
- 2025-04-22
0104 0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
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0104-工业用废水处理化学品,
0104-工业用清洁剂,
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0104-生产加工用除脂剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0104-腐蚀剂,
0104-金属电镀用化学成分,
0104-镀银用银盐溶液
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用废水处理化学品;0104-工业用清洁剂;0104-工业用除垢剂;0104-水净化用化学品;0104-消泡剂;0104-生产加工用除脂剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0104-腐蚀剂;0104-金属电镀用化学成分;0104-镀银用银盐溶液 - 1956
- 2025-10-20
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2026-02-11 商标注册申请 | 注册证发文
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2025-10-20 商标注册申请 | 排版初审公告
2025-05-14 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-04-22 商标注册申请 | 申请收文
