【CTS】商标详情
- CTS
- 79838632
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-17
0101 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-导热膏,
0115-冶金黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-结晶硅;0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-导热膏;0115-冶金黏合剂 - 1909
- 2024-10-27
- 1921
- 2025-01-28
- 2025-01-28-2035-01-27
- 浙江正金石半导体设备有限公司
- 浙江省金华市************
- 金华科路企业管理有限公司
2025-02-19 商标注册申请 | 注册证发文
2024-08-03 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-07-17 商标注册申请 | 申请收文
- CTS
- 79838632
- 已注册
- 普通商标
- 2024-07-17
0101 , 0104 , 0115 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-硅,
0101-结晶硅,
0104-化学物质制过滤材料,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-导热膏,
0115-冶金黏合剂
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-硅;0101-结晶硅;0104-化学物质制过滤材料;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-和 研磨剂配用的辅助液;0104-导热膏;0115-冶金黏合剂 - 1909
- 2024-10-27
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- 2025-01-28
- 2025-01-28-2035-01-27
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2025-02-19 商标注册申请 | 注册证发文
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