【东为氢源】商标详情
- 东为氢源
- 36802916
- 已注册
- 普通商标
- 2019-03-13
0101 , 0102 , 0104 , 0106 , 0108 0101-工业用固态气体,
0102-碱,
0102-苛性钠（氢氧化钠）,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜 用化工原料,
0104-工业用化学品,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-未加工合成树脂,
0108-离子交换树脂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）
0101-工业用固态气体;0102-碱;0102-苛性钠（氢氧化钠）;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-未加工合成树脂;0108-离子交换树脂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂） - 1658
- 2019-08-06
- 1670
- 2019-11-07
- 2019-11-07-2029-11-06
- 四川东为氢源科技有限公司
- 四川省成都市************
- 四川同赢知识产权服务有限公司
2019-12-27 商标注册申请 | 注册证发文
2019-12-27 商标注册申请 | 等待注册证发文
2019-03-29 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-03-29 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2019-03-13 商标注册申请 | 申请收文
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0102-碱,
0102-苛性钠（氢氧化钠）,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学品,
0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）,
0108-未加工合成树脂,
0108-离子交换树脂,
0108-离子交换树脂膜（化学制剂）
0101-工业用固态气体;0102-碱;0102-苛性钠（氢氧化钠）;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学品;0106-科学用化学制剂（非医用、非兽医用）;0108-未加工合成树脂;0108-离子交换树脂;0108-离子交换树脂膜（化学制剂） - 1658
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