
【图形】商标详情

- 图形
- 72659859
- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-05
0104 , 0106 , 0108 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-去光材料,
0104-工业用磁性液,
0104-玻璃着色化学品,
0104-玻璃遮光剂,
0104-金属电镀用化学成分,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-未加工人造树脂
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-去光材料;0104-工业用磁性液;0104-玻璃着色化学品;0104-玻璃遮光剂;0104-金属电镀用化学成分;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-未加工人造树脂 - 1859
- 2023-10-13
- 1871
- 2024-01-14
- 2024-01-14-2034-01-13
- 宁波健翔新材料科技有限公司
- 浙江省宁波市************
- 宁波星瑞企业管理有限公司
2024-02-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-07-05 商标注册申请 | 申请收文
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- 72659859
- 已注册
- 普通商标
- 2023-07-05
0104 , 0106 , 0108 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-去光材料,
0104-工业用磁性液,
0104-玻璃着色化学品,
0104-玻璃遮光剂,
0104-金属电镀用化学成分,
0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用),
0108-未加工人造树脂
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-去光材料;0104-工业用磁性液;0104-玻璃着色化学品;0104-玻璃遮光剂;0104-金属电镀用化学成分;0106-科学用化学制剂(非医用、非兽医用);0108-未加工人造树脂 - 1859
- 2023-10-13
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- 2024-01-14
- 2024-01-14-2034-01-13
- 宁波健翔新材料科技有限公司
- 浙江省宁波市************
- 宁波星瑞企业管理有限公司
2024-02-07 商标注册申请 | 注册证发文
2023-07-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-07-05 商标注册申请 | 申请收文


