【晶阵】商标详情
- 晶阵
- 71513562
- 已注册
- 普通商标
- 2023-05-12
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1849
- 2023-07-27
- 1861
- 2023-10-28
- 2023-10-28-2033-10-27
- 上海沐广电子科技有限公司
- 上海市上海市************
- 知域互联科技有限公司
2023-11-22 商标注册申请 | 注册证发文
2023-06-07 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-05-12 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1849
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2023-05-12 商标注册申请 | 申请收文
