【CYW】商标详情
- CYW
- 79076255
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-06
0744 0744-制造用半导体曝光设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体芯片制造设备,
0744-存储芯片制造机,
0744-电子工业设备,
0744-离子注入机,
0744-等离子刻蚀机
0744-制造用半导体曝光设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体芯片制造设备;0744-存储芯片制造机;0744-电子工业设备;0744-离子注入机;0744-等离子刻蚀机 - 1901
- 2024-08-27
- 1913
- 2024-11-28
- 2024-11-28-2034-11-27
- 深圳市创研微科技有限公司
- 广东省深圳市************
- 郑州凯派尔知识产权代理有限公司
2024-12-27 商标注册申请 | 注册证发文
2024-06-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-06 商标注册申请 | 申请收文
- CYW
- 79076255
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-06
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0744-半导体制造机,
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2024-06-21 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-06 商标注册申请 | 申请收文
