【MK 明魁 JSMK】商标详情
- MK 明魁 JSMK
- 79457956
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-26
0104 0104-催化剂,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-生产合成材料、橡胶及聚合物用催化剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-蚀刻媒染剂（酸）
0104-催化剂;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-生产合成材料、橡胶及聚合物用催化剂;0104-耐酸化学物质;0104-蚀刻媒染剂（酸） - 1905
- 2024-09-27
- 1917
- 2024-12-28
- 2024-12-28-2034-12-27
- 江苏明魁高分子材料技术有限公司
- 江苏省无锡市************
- 无锡市立晟商标事务所代理有限公司
2024-07-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-26 商标注册申请 | 申请收文
- MK 明魁 JSMK
- 79457956
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-26
0104 0104-催化剂,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-生产合成材料、橡胶及聚合物用催化剂,
0104-耐酸化学物质,
0104-蚀刻媒染剂（酸）
0104-催化剂;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-生产合成材料、橡胶及聚合物用催化剂;0104-耐酸化学物质;0104-蚀刻媒染剂（酸） - 1905
- 2024-09-27
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- 2024-12-28
- 2024-12-28-2034-12-27
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2024-07-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
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