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0101-工业硅(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0101-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的不定型硅、多晶硅和掺杂硅材料(硅光电材料),

0101-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的不定型硅、多晶硅和掺杂硅材料(硅感光材料),

0101-硅,

0102-硅酸盐(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0102-金属氧化物(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-制造颜料用化学制剂,

0104-含硅浴液(光导电材料，用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜),

0104-含硅浴液(记忆材料，用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜),

0104-含硼浴液(光导电材料，用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜),

0104-含硼浴液(记忆材料，用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜),

0104-含磷浴液(光导电材料，用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜),

0104-含磷浴液(记忆材料，用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜),

0104-含银和银钯的传导溶液(用作薄膜以制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-工业增亮化学制品(颜料),

0104-工业用化学品,

0104-工业用化学品(制造半导体用含硼掺杂物),

0104-工业用化学品(制造半导体用含磷掺杂物),

0104-染料助剂,

0104-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜的含硅溶液(旋压材料),

0104-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜的含硅溶液(紫外线吸收化合物),

0104-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜的含硼溶液,

0104-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的、在半导体晶片上沉积薄膜的含磷溶液,

0104-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的化学品,

0104-紫外线吸收化合物,

0104-表面改良的银纳米粒子(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-表面改良的银钯纳米粒子(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-表面改良的镍粒子(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-银纳米粒子(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-银纳米粒子的溶液(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-银钯纳米粒子(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-银钯纳米粒子的溶液(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-镍纳米粒子(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0104-镍纳米粒子的溶液(用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统),

0106-非医用或兽医用化学试剂,

0107-感光板,

0108-未加工塑料,

0115-工业用粘合剂,

0115-用于制造电子元件、半导体元件、设备和系统的粘合剂