
【LT】商标详情

- LT
- 43285411
- 已注册
- 普通商标
- 2019-12-24
0104 , 0106 , 0107 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-平板印刷用化学品,
0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用),
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用感光剂,
0107-摄影用显影剂
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学制剂;0104-工业用清洁剂;0104-平板印刷用化学品;0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用);0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用感光剂;0107-摄影用显影剂 - 1705
- 2020-07-27
- 1717
- 2020-10-28
- 2020-10-28-2030-10-27
- 罗保群
- 江苏省苏州市************
- 阿里巴巴科技(北京)有限公司
2026-06-23 商标转让 | 转让证明发文
2026-05-29 商标转让 | 缴费通知书发文
2026-05-12 商标转让 | 申请收文
2020-11-28 商标注册申请 | 注册证发文
2020-09-29 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2020-09-24 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2020-09-12 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2020-09-11 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2020-01-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2019-12-24 商标注册申请 | 申请收文
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0104 , 0106 , 0107 0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
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0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用清洁剂,
0104-平板印刷用化学品,
0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用),
0107-摄影用化学制剂,
0107-摄影用感光剂,
0107-摄影用显影剂
0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-工业用化学制剂;0104-工业用清洁剂;0104-平板印刷用化学品;0106-实验室分析用化学制剂(非医用、非兽医用);0107-摄影用化学制剂;0107-摄影用感光剂;0107-摄影用显影剂 - 1705
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