【FHR】商标详情
- FHR
- 82988032
- 已注册
- 普通商标
- 2025-01-07
0101 , 0102 , 0104 0101-工业用固态气体,
0101-混合稀土金属,
0101-稀土金属,
0102-工业用贵金属盐,
0102-有机金属氧化物,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104- 半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电镀制剂
0101-工业用固态气体;0101-混合稀土金属;0101-稀土金属;0102-工业用贵金属盐;0102-有机金属氧化物;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电镀制剂 - 1933
- 2025-04-27
- 1945
- 2025-07-28
- 2025-07-28-2035-07-27
- 江苏先导微电子科技有限公司
- 江苏省徐州市************
- 邮寄办理
2025-09-15 商标注册申请 | 注册证发文
2025-01-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-01-07 商标注册申请 | 申请收文
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0101 , 0102 , 0104 0101-工业用固态气体,
0101-混合稀土金属,
0101-稀土金属,
0102-工业用贵金属盐,
0102-有机金属氧化物,
0102-金属氧化物,
0102-非金属氧化物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-电镀制剂
0101-工业用固态气体;0101-混合稀土金属;0101-稀土金属;0102-工业用贵金属盐;0102-有机金属氧化物;0102-金属氧化物;0102-非金属氧化物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-电镀制剂 - 1933
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