【LITHOMAX】商标详情
- LITHOMAX
- 77047229
- 待审中
- 普通商标
- 2024-03-01
0104 , 0108 -工业用化学制剂,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0108-未加工人造树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工塑料,
0108-未加工导电性树脂,
0108-未加工聚合树脂,
0108-聚合塑料
-工业用化学制剂;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0108-未加工人造 树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工塑料;0108-未加工导电性树脂;0108-未加工聚合树脂;0108-聚合塑料 - 三菱化学株式会社
- 东京都东京************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2024-07-14 驳回复审 | 申请收文
2024-06-13 商标注册申请 | 驳回 通知发文
2024-06-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-28 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-03-01 商标注册申请 | 申请收文
- LITHOMAX
- 77047229
- 待审中
- 普通商标
- 2024-03-01
0104 , 0108 -工业用化学制剂,
0104-光致抗蚀剂,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0108-未加工人造树脂,
0108-未加工合成树脂,
0108-未加工塑料,
0108-未加工导电性树脂,
0108-未加工聚合树脂,
0108-聚合塑料
-工业用化学制剂;0104-光致抗蚀剂;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0108-未加工人造树脂;0108-未加工合成树脂;0108-未加工塑料;0108-未加工导电性树脂;0108-未加工聚合树脂;0108-聚合塑料 - 三菱化学株式会社
- 东京都东京************
- 北京林达刘知识产权代理事务所（普通合伙）
2024-07-14 驳回复审 | 申请收文
2024-06-13 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-06-02 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-03-28 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-03-01 商标注册申请 | 申请收文
