【TWINSCAN】商标详情
- TWINSCAN
- G826175
- 已注册
- 普通商标
- 2004-08-30
4209 , 4220 4209-提供与上述的各种服务内容相关的咨询服务,
4209-提供对用于微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统方面所使用的软件的设计服务,维护服务,以及开发服务,并且提供对用于照相平版印刷掩模的设计,测试,以及制造的软件的设计、维护和开发,
4209-提供对用于电子、微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统的各种机械,设备,以及仪器的使用方面的技术咨询服务(工程技术人员的服务),
4220-提供与上述的各种服务内容相 关的咨询服务,
4220-提供对用于微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统方面所使用的软件的设计服务,维护服务,以及开发服务,并且提供对用于照相平版印刷掩模的设计,测试,以及制造的软件的设计、维护和开发
4209-提供与上述的各种服务内容相关的咨询服务;4209-提供对用于微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统方面所使用的软件的设计服务,维护服务,以及开发服务,并且提供对用于照相平版印刷掩模的设计,测试,以及制造的软件的设计、维护和开发;4209-提供对用于电子、微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统的各种机械,设备,以及仪器的使用方面的技术咨询服务(工程技术人员的服务);4220-提供与上述的各种服务内容相关的咨询服务;4220-提供对用于微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统方面所使用的软件的设计服务,维护服务,以及开发服务,并且提供对用于照相平版印刷掩模的设计,测试,以及制造的软件的设计、维护和开发 - 2024-02-16-2034-02-16
- ASML NETHERLANDS B.V.
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 国际局
2024-01-19 国际续展 | 申请核准审核
2023-12-31 国际续展 | 申请收文
2015-02-27 国际续展 | 申请核准审核
2014-08-03 国际续展 | 申请收文
2006-01-20 商标注册申请 | 国际变更中
2005-01-06 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2005-01-06 领土延伸 | 审查
2004-08-30 领土延伸 | 申请收文
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- G826175
- 已注册
- 普通商标
- 2004-08-30
4209 , 4220 4209-提供与上述的各种服务内容相关的咨询服务,
4209-提供对用于微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统方面所使用的软件的设计服务,维护服务,以及开发服务,并且提供对用于照相平版印刷掩模的设计,测试,以及制造的软件的设计、维护和开发,
4209-提供对用于电子、微型平版印刷,集成电路,半导体,磁性域存储器,以及整体光学系统的各 种机械,设备,以及仪器的使用方面的技术咨询服务(工程技术人员的服务),
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- ASML NETHERLANDS B.V.
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2023-12-31 国际续展 | 申请收文
2015-02-27 国际续展 | 申请核准审核
2014-08-03 国际续展 | 申请收文
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2005-01-06 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2005-01-06 领土延伸 | 审查
2004-08-30 领土延伸 | 申请收文