
【心芯相应】商标详情

- 心芯相应
- 6119594
- 已驳回
- 普通商标
- 2007-06-20
0726 , 0744 0726-电子机械和仪器用薄膜加工成型和制造设备,
0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备,
0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-半导体晶片加工设备,
0744-外延反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-物理蒸汽沉淀反应器(半导体晶 片加工设备部件),
0744-相关支撑架(半导体晶片加工设备部件),
0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件),
0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件)
0726-电子机械和仪器用薄膜加工成型和制造设备;0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备;0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-半导体晶片加工设备;0744-外延反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-物理蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-相关支撑架(半导体晶片加工设备部件);0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件);0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件) - 应用材料公司
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
2009-08-04 商标注册申请 | 打印驳回通知
2007-09-17 商标注册申请 | 打印受理通知
2007-06-20 商标注册申请 | 申请收文
- 心芯相应
- 6119594
- 已驳回
- 普通商标
- 2007-06-20
0726 , 0744 0726-电子机械和仪器用薄膜加工成型和制造设备,
0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备,
0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-半导体晶片加工设备,
0744-外延反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-物理蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件),
0744-相关支撑架(半导体晶片加工设备部件),
0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件),
0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件)
0726-电子机械和仪器用薄膜加工成型和制造设备;0744-制造电子机械用仪器液晶显示器的设备;0744-化学蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-半导体晶片加工设备;0744-外延反应器(半导体 晶片加工设备部件);0744-物理蒸汽沉淀反应器(半导体晶片加工设备部件);0744-相关支撑架(半导体晶片加工设备部件);0744-离子植入管(半导体晶片加工设备部件);0744-等离子蚀刻器(半导体晶片加工设备部件) - 应用材料公司
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
2009-08-04 商标注册申请 | 打印驳回通知
2007-09-17 商 标注册申请 | 打印受理通知
2007-06-20 商标注册申请 | 申请收文


