
【TSD】商标详情

- TSD
- G1228694
- 已注册
- 普通商标
- 2014-12-25
0729 , 0744 0729-低压化学气相沉积设备,
0729-等离子化学气相沉积设备,
0729-等离子强化化学气相沉积设备,
0729-金属有机化学气相沉积机器,
0744-制造太阳能电池用原子层沉积机,
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0744-半导体加工机器,
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- 国际局
2024-07-26 国际续展 | 申请核准审核
2024-07-21 国际续展 | 申请收文
2014-12-25 领土延伸 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2014-12-25
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0729-等离子化学气相沉积设备,
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