【CIRCUIT】商标详情
- CIRCUIT
- 76247408
- 已注册
- 普通商标
- 2024-01-08
0102 , 0104 , 0107 0102-硫酸铜（蓝矾）,
0102-碳酸铜,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0107-定影液（摄影用）,
0107-晒图专用显影液
0102-硫酸铜（蓝矾）;0102-碳酸铜;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0107-定影液（摄影用）;0107-晒图专用显影液 - 1891
- 2024-06-13
- 1903
- 2024-09-14
- 2024-09-14-2034-09-13
- 南通赛可特电子有限公司
- 江苏省南通市************
- 南通国鑫智汇知识产权代理事务所（普通合伙）
2024-10-19 商标注册申请 | 注册证发文
2024-05-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-04-04 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-08 商标注册申请 | 申请收文
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- 已注册
- 普通商标
- 2024-01-08
0102 , 0104 , 0107 0102-硫酸铜（蓝矾）,
0102-碳酸铜,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-电镀制剂,
0104-电镀液,
0107-定影液（摄影用）,
0107-晒图专用显影液
0102-硫酸铜（蓝矾）;0102-碳酸铜;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-电镀制剂;0104-电镀液;0107-定影液（摄影用）;0107-晒图专用显影液 - 1891
- 2024-06-13
- 1903
- 2024-09-14
- 2024-09-14-2034-09-13
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2024-10-19 商标注册申请 | 注册证发文
2024-05-30 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-04-04 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-01-26 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-01-08 商标注册申请 | 申请收文
