【CS MICROELECTRONICS CO.,LTD】商标详情
- CS MICROELECTRONICS CO.,LTD
- 55767757
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-30
4001 , 4002 , 4006 , 4012 , 4015 4001-打磨,
4001-用激光束处理材料,
4001-研磨,
4001-研磨抛光,
4002-电镀,
4002-金属处理,
4006-光学透镜研磨,
4012-废物处理(变形),
4015-化学试剂加工和处理,
4015-半导体晶片的加工
4001-打磨;4001-用激光束处理材料;4001-研磨;4001-研磨抛光;4002-电镀;4002-金属处理;4006-光学透镜研磨;4012-废物处理(变形);4015-化学试剂加工和处理;4015-半导体晶片的加工 - 1815
- 2022-11-13
- 1827
- 2023-02-14
- 2023-02-14-2033-02-13
- 威科赛乐微电子股份有限公司
- 重庆市重庆市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2023-03-08 驳回复审 | 打印注册证
2022-07-05 驳回复审 | 实审裁文发文
2022-02-16 驳回复审 | 评审分案
2021-09-11 驳回复审 | 申请收文
2021-09-10 驳回复审 | 申请收文
2021-08-12 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-05-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-30 商标注册申请 | 申请收文
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- 55767757
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-30
4001 , 4002 , 4006 , 4012 , 4015 4001-打磨,
4001-用激光束处理材料,
4001-研磨,
4001-研磨抛光,
4002-电镀,
4002-金属处理,
4006-光学透镜研磨,
4012-废物处理(变形),
4015-化学试剂加工和处理,
4015-半导体晶片的加工
4001-打磨;4001-用激光束处理材料;4001-研磨;4001-研磨抛光;4002-电镀;4002-金属处理;4006-光学透镜研磨;4012-废物处理(变形);4015-化学试剂加工和处理;4015-半导体晶片的 加工 - 1815
- 2022-11-13
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- 2023-02-14-2033-02-13
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2021-05-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
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