【TOPTOM】商标详情
- TOPTOM
- 56332544
- 已注册
- 普通商标
- 2021-05-25
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-硅,
0102-有机金属化合物,
0102-碳化硅,
0102-苯衍生物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用碳化硅,
0115-工业用黏合剂
0101-硅;0102-有机金属化合物;0102- 碳化硅;0102-苯衍生物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用碳化硅;0115-工业用黏合剂 - 1767
- 2021-11-13
- 1779
- 2022-02-14
- 2022-02-14-2032-02-13
- 南京高光半导体材料有限公司
- 江苏省南京市************
- 盐城创佳商标专利事务所有限公司
2022-03-10 商标注册申请 | 注册证发文
2021-11-04 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-09-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-05-25 商标注册申请 | 申请收文
- TOPTOM
- 56332544
- 已注册
- 普通商标
- 2021-05-25
0101 , 0102 , 0104 , 0115 0101-硅,
0102-有机金属化合物,
0102-碳化硅,
0102-苯衍生物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-工业用化学制剂,
0104-工业用化学品,
0104-工业用碳化硅,
0115-工业用黏合剂
0101-硅;0102-有机金属化合物;0102-碳化硅;0102-苯衍生物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-工业用化学制剂;0104-工业用化学品;0104-工业用碳化硅;0115-工业用黏合剂 - 1767
- 2021-11-13
- 1779
- 2022-02-14
- 2022-02-14-2032-02-13
- 南京高光半导体材料有限公司
- 江苏省南京市************
- 盐城创佳商标专利事务所有限公司
2022-03-10 商标注册申请 | 注册证发文
2021-11-04 商标注册申请 | 等待驳回复审
2021-09-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-06-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-05-25 商标注册申请 | 申请收文