【图形】商标详情
- 图形
- 86096401
- 已初审
- 普通商标
- 2025-06-24
0101 , 0104 0101-工业用固态气体,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-耐酸化学物质
0101-工业用固态气体;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电路板制造用蚀刻剂;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用废水处理化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-耐酸化学物质 - 1953
- 2025-09-27
- 无锡恒大电子科技有限公司
- 江苏省无锡市************
- 无锡邦拓知识产权代理有限公司
2025-07-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-06-27 商标注册申请 | 申请收文
2025-06-24 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-09-27 第1953期 查看公告
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- 2025-06-24
0101 , 0104 0101-工业用固态气体,
0104-制造印刷电路板用掩膜化合物,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-印刷电路制造用化学氧化剂,
0104-印刷电路板制造用蚀刻剂,
0104-和研磨剂配用的辅助液,
0104-工业用废水处理化学品,
0104-生产印刷电路板用化学涂层,
0104-耐酸化学物质
0101-工业用固态气体;0104-制造印刷电路板用掩膜化合物;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-印刷电路制造用化学氧化剂;0104-印刷电 路板制造用蚀刻剂;0104-和研磨剂配用的辅助液;0104-工业用废水处理化学品;0104-生产印刷电路板用化学涂层;0104-耐酸化学物质 - 1953
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