
【IDIEL】商标详情

- IDIEL
- 7522274
- 已注册
- 普通商标
- 2009-07-06
0302 , 0303 , 0304 0302-用于制造和加工光学组件的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工塑料的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工玻璃的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工电子零件及基板的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工磁性数据存储磁盘和磁头的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工计算机零件的研磨,清洗和抛光制剂,
0302-用于制造和加工金属的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-抛光浆料,
0303-用于制造和加工光学组件的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工塑料的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工玻璃的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工电子零件及基板的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工磁性数据存储磁盘和磁头的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工计算机零件的研磨,清洗和抛光制剂,
0303-用于制造和加工金属的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工光学组件的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工塑料的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工玻璃的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工电子零件及基板的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工磁性数据存储磁盘和磁头的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工计算机零件的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-用于制造和加工金属的研磨,清洗和抛光制剂,
0304-研磨分散剂
0302-用于制造和加工光学组件的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工塑料的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工玻璃的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工电子零件及基板的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工磁性数据存储磁盘和磁头的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工计算机零件的研磨,清洗和抛光制剂;0302-用于制造和加工金属的研磨,清洗和抛光制剂;0303-抛光浆料;0303-用于制造和加工光学组件的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工塑料的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工玻璃的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工电子零件及基板的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工磁性数据存储磁盘和磁头的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工计算机零件的研磨,清洗和抛光制剂;0303-用于制造和加工金属的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工光学组件的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工塑料的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工玻璃的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工电子零件及基板的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工磁性数据存储磁盘和磁头的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工计算机零件的研磨,清洗和抛光制剂;0304-用于制造和加工金属的研磨,清洗和抛光制剂;0304-研磨分散剂 - 1224
- 2010-07-20
- 1236
- 2010-10-21
- 2020-10-21-2030-10-20
- 鑫明材料有限责任公司
- 伊利诺伊奥罗拉************
- 北京市柳沈律师事务所
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2024-08-07 变更商标代理人 | 申请收文
2023-12-20 变更商标申请人/注册人名 义/地址 | 核准证明打印发送
2023-11-16 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-05-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
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2021-04-14 变更商标代理人 | 申请收文
2021-04-14 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
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0302-用于制造和加工机械的研磨,清洗和抛光制剂,
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0303-抛光浆料,
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0304-研磨分散剂
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