【一和柒】商标详情
- 一和柒
- 91022192
- 已注册
- 普通商标
- 2026-04-07
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0102-乙烯,
0102-工业用二氧化钛,
0102-碱,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0102-酸,
0104-催化剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-去光材料
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0102-乙烯;0102-工业用二氧化钛;0102-碱;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0102-酸;0104-催化剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-去光材料 - 1990
- 2026-07-06
- 2002
- 2026-10-07
- 2026-10-07-2036-10-06
- 北京一和柒新材料科技有限公司
- 北京市北京市************
- 北京春雪智行咨询有限公司
2026-10-08 商标注册申请 | 排版注册公告
2026-07-08 商标注册申请 | 初步审定公告通知书发文
2026-07-06 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-05-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-04-07 商标注册申请 | 申请收文
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- 91022192
- 已注册
- 普通商标
- 2026-04-07
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业用固态气体,
0102-乙烯,
0102-工业用二氧化钛,
0102-碱,
0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）,
0102-酸,
0104-催化剂,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-去光材料
0101-半导体用硅;0101-工业用固态气体;0102-乙烯;0102-工业用二氧化钛;0102-碱;0102-碳化硅（生产其他产品用原材料）;0102-酸;0104-催化剂;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-去光材料 - 1990
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2026-07-06 商标注册申请 | 排版初审公告
2026-05-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2026-04-07 商标注册申请 | 申请收文
