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0104-工业和科学用化合物,
0104-工业和科学用液体和气体化学品,
0104-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0104-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0104-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0104-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0104-液体和气体化学品,
0105-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0105-化学化合物和高纯度气体,
0105-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0105-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0105-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0105-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0105-液体和气体化学品,
0106-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0106-化学化合物和高纯度气体,
0106-工业和科学用化合物,
0106-工业和科学用液体和气体化学品,
0106-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0106-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0106-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0106-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0106-液体和气体化学品,
0107-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0107-化学化合物和高纯度气体,
0107-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0107-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0107-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0107-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0107-液体和气体化学品,
0108-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0108-化学化合物和高纯度气体,
0108-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0108-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0108-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0108-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0108-液体和气体化学品,
0109-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0109-化学化合物和高纯度气体,
0109-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0109-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0109-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0109-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0109-液体和气体化学品,
0110-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0110-化学化合物和高纯度气体,
0110-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0110-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0110-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0110-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0110-液体和气体化学品,
0111-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0111-化学化合物和高纯度气体,
0111-工业和科学用化合物,
0111-工业和科学用液体和气体化学品,
0111-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0111-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0111-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0111-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0111-液体和气体化学品,
0112-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0112-化学化合物和高纯度气体,
0112-工业和科学用化合物,
0112-工业和科学用液体和气体化学品,
0112-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0112-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0112-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0112-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0112-液体和气体化学品,
0113-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0113-化学化合物和高纯度气体,
0113-工业和科学用化合物,
0113-工业和科学用液体和气体化学品,
0113-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0113-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0113-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0113-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0113-液体和气体化学品,
0114-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0114-化学化合物和高纯度气体,
0114-工业和科学用化合物,
0114-工业和科学用液体和气体化学品,
0114-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0114-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0114-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0114-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0114-液体和气体化学品,
0115-前体化学品、高纯度气体和制剂,
0115-化学化合物和高纯度气体,
0115-工业和科学用化合物,
0115-工业和科学用液体和气体化学品,
0115-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,
0115-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0115-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,,
0115-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂,
0115-液体和气体化学品
0101-前体化学品、高纯度气体和制剂;0101-化学化合物和高纯度气体;0101-工业和科学用化合物;0101-工业和科学用液体和气体化学品;0101-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0101-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0101-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0101-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0101-液体和气体化学品;0101-高纯度气体;0102-前体化学品、高纯度气体和制剂;0102-化学化合物和高纯度气体;0102-工业和科学用化合物;0102-工业和科学用液体和气体化学品;0102-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0102-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0102-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0102-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0102-液体和气体化学品;0103-前体化学品、高纯度气体和制剂;0103-化学化合物和高纯度气体;0103-工业和科学用化合物;0103-工业和科学用液体和气体化学品;0103-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0103-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0103-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0103-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0103-液体和气体化学品;0104-前体化学品、高纯度气体和制剂;0104-化学化合物和高纯度气体;0104-化学机械抛光用化学制剂和化学混合物;0104-工业和科学用化合物;0104-工业和科学用液体和气体化学品;0104-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0104-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0104-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0104-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0104-液体和气体化学品;0105-前体化学品、高纯度气体和制剂;0105-化学化合物和高纯度气体;0105-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0105-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0105-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0105-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0105-液体和气体化学品;0106-前体化学品、高纯度气体和制剂;0106-化学化合物和高纯度气体;0106-工业和科学用化合物;0106-工业和科学用液体和气体化学品;0106-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0106-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0106-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0106-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0106-液体和气体化学品;0107-前体化学品、高纯度气体和制剂;0107-化学化合物和高纯度气体;0107-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0107-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0107-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0107-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0107-液体和气体化学品;0108-前体化学品、高纯度气体和制剂;0108-化学化合物和高纯度气体;0108-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0108-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0108-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0108-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0108-液体和气体化学品;0109-前体化学品、高纯度气体和制剂;0109-化学化合物和高纯度气体;0109-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0109-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0109-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0109-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0109-液体和气体化学品;0110-前体化学品、高纯度气体和制剂;0110-化学化合物和高纯度气体;0110-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0110-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0110-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0110-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0110-液体和气体化学品;0111-前体化学品、高纯度气体和制剂;0111-化学化合物和高纯度气体;0111-工业和科学用化合物;0111-工业和科学用液体和气体化学品;0111-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0111-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0111-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0111-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0111-液体和气体化学品;0112-前体化学品、高纯度气体和制剂;0112-化学化合物和高纯度气体;0112-工业和科学用化合物;0112-工业和科学用液体和气体化学品;0112-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0112-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0112-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0112-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0112-液体和气体化学品;0113-前体化学品、高纯度气体和制剂;0113-化学化合物和高纯度气体;0113-工业和科学用化合物;0113-工业和科学用液体和气体化学品;0113-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0113-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0113-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0113-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0113-液体和气体化学品;0114-前体化学品、高纯度气体和制剂;0114-化学化合物和高纯度气体;0114-工业和科学用化合物;0114-工业和科学用液体和气体化学品;0114-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0114-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0114-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0114-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0114-液体和气体化学品;0115-前体化学品、高纯度气体和制剂;0115-化学化合物和高纯度气体;0115-工业和科学用化合物;0115-工业和科学用液体和气体化学品;0115-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业;0115-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0115-所有上述产品均用于电子产品、半导体和微机电行业,;0115-所有上述产品用作:化学机械平坦化用清洁剂,掺杂剂,用于半导体激光器的材料,蚀刻剂,金属化剂,光刻胶剥离剂,表面预处理剂,晶圆清洗剂,薄膜沉积剂,腔体清洁剂,化学机械平坦化后清洁剂和残留物清除剂;0115-液体和气体化学品 - MERCK KGAA
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