【ION-X】商标详情
- ION-X
- G1400590
- 已注册
- 普通商标
- 2018-05-10
0104 0104-用于制造半导体、在半导体晶圆上沉积薄膜用化学源材料
0104-用于制造半导体、在半导体晶圆上沉积薄膜用化学源材料 - 2018-03-07-2028-03-07
- NuMat Technologies， Inc.
- 伊利诺伊芝加哥************
- 国际局
2018-11-19 领土延伸 | 审查
2018-05-10 商标注册申请 | 申请收文
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- ION-X
- G1400590
- 已注册
- 普通商标
- 2018-05-10
0104 0104-用于制造半导体、在半导体晶圆上沉积薄膜用化学源材料
0104-用于制造半导体、在半导体晶圆上沉积薄膜用化学源材料 - 2018-03-07-2028-03-07
- NuMat Technologies， Inc.
- 伊利诺伊芝加哥************
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2018-11-19 领土延伸 | 审查
2018-05-10 商标注册申请 | 申请收文
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