【ENABLION】商标详情
- ENABLION
- G1754233
- 其他
- 普通商标
- 2023-10-05
0705 , 0729 , 0744 , 0752 0705-照相制版用装置,
0729-化学气相沉积机,
0729-用于电子、半导体、微机电等行业的反应离子蚀刻机、化学机械刨平机,
0744-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置,
0744-涂覆和处理光刻胶(光致抗蚀剂)的器具,
0744-用于冲洗和干燥半导体晶片的装置,
0744-用于制造半导体晶片、半导体基板、平板显示器和数据盘的机器,包括晶片处理机、晶片化学处理机,
0744-用于制造液晶显示器(LCD)、等离 子体显示面板(PDP)、太阳能电池、有机发光二极管(OLED)和发光二极管(LED)的原子层沉积机,
0744-用于半导体工业外延工艺的自动化高流量起泡器,
0744-用于处理和加工半导体晶片和衬底、平板屏幕和数据盘的工业生产机器,
0744-用于电子、半导体、微机电等行业的反应离子蚀刻机、化学机械刨平机,
0752-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置
0705-照相制版用装置;0729-化学气相沉积机;0729-用于电子、半导体、微机电等行业的反应离子蚀刻机、化学机械刨平机;0744-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置;0744-涂覆和处理光刻胶(光致抗蚀剂)的器具;0744-用于冲洗和干燥半导体晶片的装置;0744-用于制造半导体晶片、半导体基板、平板显示器和数据盘的机器,包括晶片处理机、晶片化学处理机;0744-用于制造液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、太阳能电池、有机发光二极管(OLED)和发光二极管(LED)的原子层沉积机;0744-用于半导体工业外延工艺的自动化高流量起泡器;0744-用于处理和加工半导体晶片和衬底、平板屏幕和数据盘的工业生产机器;0744-用于电子、半导体、微机电等行业的反应离子蚀刻机、化学机械刨平机;0752-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置 - MERCK KGAA
- Frankfurter Str. 250 64293 Darmstadt
- 国际局
2023-10-05 领土延伸 | 申请收文
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0705 , 0729 , 0744 , 0752 0705-照相制版用装置,
0729-化学气相沉积机,
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0744-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置,
0744-涂覆和处理光刻胶(光致抗蚀剂)的器具,
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0744-用于制造半导体晶片、半导体基板、平板显示器和数据盘的机器,包括晶片处理机、晶片化学处理机,
0744-用于制造液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、太阳能电池、有机发光二极管(OLED)和发光二极管(LED)的原子层沉积机,
0744-用于半导体工业外延工艺的自动化高流量起泡器,
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0752-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置
0705-照相制版用装置;0729-化学气相沉积机;0729-用于电子、半导体、微机电等行业的反应离子蚀刻机、化学机械刨平机;0744-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置;0744-涂覆和处理光刻胶(光致抗蚀剂)的器具;0744-用于冲洗和干燥半导体晶片的装置;0744-用于制造半导体晶片、半导体基板、平板显示器和数据盘的机器,包括晶片处理机、晶片化学处理机;0744-用于制造液晶显示器(LCD)、等离子体显示面板(PDP)、太阳能电池、有机发光二极管(OLED)和发光二极管(LED)的原子层沉积机;0744-用于半导体工业外延工艺的自动化高流量起泡器;0744-用于处理和加工半导体晶片和衬底、平板屏幕和数据盘的工业生产机器;0744-用于电子、半导体、微机电等行业的反应离子蚀刻机、化学机械刨平机;0752-半导体制造机,即加工材料制造半导体的清洗和加工组合装置 - MERCK KGAA
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