【EPOCH】商标详情
- EPOCH
- 5711552
- 已注册
- 普通商标
- 2006-11-09
0304 0304-化学机械研磨液,
0304-半导体及光电制造过程用化学机械研磨液,
0304-发光二极体研磨液,
0304-有机发光体研磨液,
0304-液晶显示器研磨液,
0304-玻璃薄化研磨液,
0304-研磨剂,
0304-硬碟基板用研磨液
0304-化学机械研磨液;0304-半导体及光电制造过程用化学机械研磨 液;0304-发光二极体研磨液;0304-有机发光体研磨液;0304-液晶显示器研磨液;0304-玻璃薄化研磨液;0304-研磨剂;0304-硬碟基板用研磨液 - 1283
- 2011-10-13
- 1295
- 2012-01-14
- 2022-01-14-2032-01-13
- 应特格有限公司
- 马萨诸塞比尔里卡************
- 北京市柳沈律师事务所
2024-03-01 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2024-02-20 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2023-12-13 商标转让 | 核准证明打印发送
2023-09-08 商标转让 | 申请收文
2022-02-25 商标续展 | 核准通知打印发送
2022-01-14 商标续展 | 申请收文
2022-01-12 商标续展 | 申请收文
2021-06-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2021-05-07 变更商标代理人 | 核准通知打印发送
2021-04-16 变更商标代理人 | 申请收文
2021-04-16 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2021-04-15 变更商标代理人 | 申请收文
2021-04-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2012-02-01 商标注册申请 | 打印注册证
2009-07-14 驳回复审 | 补充材料收文
2009-06-03 驳回复审 | 打印受理通知
2009-04-21 驳回复审 | 申请收文
2009-03-25 商标注册申请 | 打印驳回通知
2007-04-25 商标注册申请 | 打印受理通知
2006-11-09 商标注册申请 | 申请收文
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- 普通商标
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0304 0304-化学机械研磨液,
0304-半导体及光电制 造过程用化学机械研磨液,
0304-发光二极体研磨液,
0304-有机发光体研磨液,
0304-液晶显示器研磨液,
0304-玻璃薄化研磨液,
0304-研磨剂,
0304-硬碟基板用研磨液
0304-化学机械研磨液;0304-半导体及光电制造过程用化学机械研磨液;0304-发光二极体研磨液;0304-有机发光体研磨液;0304-液晶显示器研磨液;0304-玻璃薄化研磨液;0304-研磨剂;0304-硬碟基板用研磨液 - 1283
- 2011-10-13
- 1295
- 2012-01-14
- 2022-01-14-2032-01-13
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- 马萨诸塞 比尔里卡************
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2009-03-25 商标注册申请 | 打印驳回通知
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