【氧盾 OXYGUARD】商标详情
- 氧盾 OXYGUARD
- 86454253
- 待审中
- 普通商标
- 2025-07-11
0101 , 0102 , 0104 , 0108 , 0115 0101-氢气,
0102-工业用过氧化氢,
0102-过氧化氢,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片 上沉积薄膜用化工原料,
0104-去光材料,
0104-水软化剂,
0108-增塑剂,
0108-硅酮,
0115-工业用黏合剂
0101-氢气;0102-工业用过氧化氢;0102-过氧化氢;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-去光材料;0104-水软化剂;0108-增塑剂;0108-硅酮;0115-工业用黏合剂 - 湖南双阳新材料科技有限公司
- 湖南省岳阳市************
- 湖南浩邦知识产权有限公司
2025-11-07 商标注册申请 | 驳回通知书发文
2025-09-04 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-07-11 商标注册申请 | 申请收文
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0102-工业用过氧化氢,
0102-过氧化氢,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-去光材料,
0104-水软化剂,
0108-增塑剂,
0108-硅酮,
0115-工业用黏合剂
0101-氢气;0102-工业用过氧化氢;0102-过氧化氢;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-去光材料;0104-水软化剂;0108-增塑剂;0108-硅酮;0115-工业用黏合剂 - 湖南双阳新材料科技有限公司
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