【STENSAR】商标详情
- STENSAR
- G1669250
- 已注册
- 普通商标
- 2022-06-30
1703 , 1706 1703-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层,
1706-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层
1703-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层;1706-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层 - 2022-06-01-2032-06-01
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
2023-06-05 领土延伸 | 审查
2022-06-30 商标注册申请 | 申请收文
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- STENSAR
- G1669250
- 已注册
- 普通商标
- 2022-06-30
1703 , 1706 1703-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层,
1706-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层
1703-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层;1706-半导体制造用的介电薄膜和介电涂层 - 2022-06-01-2032-06-01
- APPLIED MATERIALS， INC.
- 加利福尼亚圣克拉拉************
- 国际局
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2022-06-30 商标注册申请 | 申请收文
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