【RAYNERGY TEK】商标详情
- RAYNERGY TEK
- 74335204
- 已注册
- 普通商标
- 2023-09-27
0102 , 0104 0102-有机卤化物,
0102-杂环化合物,
0102-氯氟碳化合物,
0102-表面活性剂,
0102-表面活性化学剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0102-有机卤化物;0102-杂环化合物;0102-氯氟碳化合物;0102-表面活性剂;0102-表面活性化学剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工 原料 - 1869
- 2023-12-27
- 1881
- 2024-03-28
- 2024-03-28-2034-03-27
- 天光材料科技股份有限公司
- 台湾省新竹县************
- 北京中原华和知识产权代理有限责任公司
2024-04-19 商标注册申请 | 注册证发文
2023-10-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-09-27 商标 注册申请 | 申请收文
- RAYNERGY TEK
- 74335204
- 已注册
- 普通商标
- 2023-09-27
0102 , 0104 0102-有机卤化物,
0102-杂环化合物,
0102-氯氟碳化合物,
0102-表面活性剂,
0102-表面活性化学剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0102-有机卤化物;0102-杂环化合物;0102-氯氟碳化合物;0102-表面活性剂;0102-表面活性化学剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1869
- 2023-12-27
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- 2024-03-28
- 2024-03-28-2034-03-27
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2023-10-20 商标注册申请 | 受理通知书发文
2023-09-27 商标注册申请 | 申请收文
