【吾同 研创】商标详情
- 吾同 研创
- 54451404
- 已注册
- 普通商标
- 2021-03-19
4209 , 4210 , 4211 , 4212 , 4214 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-替他人研究和开发新产品,
4210-地质勘探,
4211-化学服务,
4212-生物学研究,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4217-室内装饰设计,
4218-服装设计,
4220-计算机编程,
4227-平面美术设计
4209-替他人研究和开发新产品;4210-地质勘探;4211-化学服务;4212-生物学研究;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4217-室内装饰设计;4218-服装设计;4220-计算机编程;4227-平面美术设计 - 1821
- 2022-12-27
- 1833
- 2023-03-28
- 2023-03-28-2033-03-27
- 浙江释诺文化创意有限公司
- 浙江省杭州市************
- 北京知果科技有限公司
2023-04-21 驳回复审 | 打印注册证
2022-08-16 驳回复审 | 实审裁文发文
2022-08-16 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2022-03-21 驳回复审 | 评审分案
2021-11-19 驳回复审 | 申请收文
2021-11-17 驳回复审 | 申请收文
2021-10-21 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
2021-10-21 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-04-15 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-15 商标注册申请 | 等待受理通知书发文
2021-03-19 商标注册申请 | 申请收文
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- 2021-03-19
4209 , 4210 , 4211 , 4212 , 4214 , 4216 , 4217 , 4218 , 4220 , 4227 4209-替他人研究和开发新产品,
4210-地质勘探,
4211-化学服务,
4212-生物学研究,
4214-材料测试,
4216-工业品外观设计,
4217-室内装饰设计,
4218-服装设计,
4220-计算机编程,
4227-平面美术设计
4209-替他人研究和开发新产品;4210-地质勘探;4211-化学服务;4212-生物学研究;4214-材料测试;4216-工业品外观设计;4217-室内装饰设计;4218-服装设计;4220-计算机编程;4227-平面美术设计 - 1821
- 2022-12-27
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2021-10-21 商标注册申请 | 等待驳回通知发文
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