
【ADASTRA】商标详情

- ADASTRA
- 81780079
- 已注册
- 普通商标
- 2024-11-04
0744 , 0754 -半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置,
-半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置平台,
-半导体制造用化学蒸镀装置(CVD),
-半导体制造用溅射装置,
-半导体制造用热处理装置,
-半导体制造用热处理装置平台,
-半导体制造装置及其零部件和附件,
-半导体器件制造装置,
-半导体器件制造装置用平台,
-半导体晶片处理设备用平台,
-半导体晶片搬运装置,
-生产半导体用原子层沉积设备(ALD),
-用于生产半导体的真空蒸镀装置,
-用于生产半导体的通过化学蒸镀法的薄膜成型装置,
-真空薄膜成型设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造用蚀刻设备,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-集成电路制造机械(电子工业设备),
0754-真空喷镀机械
-半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置;-半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置平台;-半导体制造用化学蒸镀装置(CVD);-半导体制造用溅射装置;-半导体制造用热处理装置;-半导体制造用热处理装置平台;-半导体制造装置及其零部件和附件;-半导体器件制造装置;-半导体器件制造装置用平台;-半导体晶片处理设备用平台;-半导体晶片搬运装置;-生产半导体用原子层沉积设备(ALD);-用于生产半导体的真空蒸镀装置;-用于生产半导体的通过化学蒸镀法的薄膜成型装置;-真空薄膜成型设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造用蚀刻设备;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-集成电路制造机械(电子工业设备);0754-真空喷镀机械 - 1921
- 2025-01-27
- 1933
- 2025-04-28
- 2025-04-28-2035-04-27
- 佳能安内华株式会社
- 神奈川川崎市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2025-05-21 商标注册申请 | 注册证发文
2025-01-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-12-07 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-11-04 商标注册申请 | 申请收文
2024-11-04 00:00:00 商标注册申请 | 申请收文
- ADASTRA
- 81780079
- 已注册
- 普通商标
- 2024-11-04
0744 , 0754 -半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置,
-半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置平台,
-半导体制造用化学蒸镀装置(CVD),
-半导体制造用溅射装置,
-半导体制造用热处理装置,
-半导体制造用热处理装置平台,
-半导体制造装置及其零部件和附件,
-半导体器件制造装置,
-半导体器件制造装置用平台,
-半导体晶片处理设备用平台,
-半导体晶片搬运装置,
-生产半导体用原子层沉积设备(ALD),
-用于生产半导体的真空蒸镀装置,
-用于生产半导体的通过化学蒸镀法的薄膜成型装置,
-真空薄膜成型设备,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造用蚀刻设备,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-电子元件制造设备,
0744-电子工业设备,
0744-集成电路制造机械(电子工业设备),
0754-真空喷镀机械
-半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置;-半导体、金属、绝缘体等的薄膜成型装置平台;-半导体制造用化学蒸镀装置(CVD);-半导体制造用溅射装置;-半导体制造用热处理装置;-半导体制造用热处理装置平台;-半导体制造装置及其零部件和附件;-半导体器件制造装置;-半导体器件制造装置用平台;-半导体晶片处理设备用平台;-半导体晶片搬运装置;-生产半导体用原子层沉积设备(ALD);-用于生产半导体的真空蒸镀装置;-用于生产半导体的通过化学蒸镀法的薄膜成型装置;-真空薄膜成型设备;0744-半导体制造机;0744-半导体制造用蚀刻设备;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-电子元件制造设备;0744-电子工业设备;0744-集成电路制造机械(电子工业设备);0754-真空喷镀机械 - 1921
- 2025-01-27
- 1933
- 2025-04-28
- 2025-04-28-2035-04-27
- 佳能安内华株式会社
- 神奈川川崎市************
- 中国贸促会专利商标事务所有限公司
2025-05-21 商标注册申请 | 注册证发文
2025-01-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-12-07 商标注册申请 | 补正通知发文
2024-11-04 商标注册申请 | 申请收文
2024-11-04 00:00:00 商标注册申请 | 申请收文


