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【MAKING A MATERIAL DIFFERENCE】商标详情
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0729 , 0744 , 0745 , 0746 -使用溶剂化学品的半导体单晶片湿法加工机,
-光学镀膜离子束机,用于镀膜多层光学薄膜,包括其组件,
-制造机器和设备,即包括组件的分子束外延(MBE)系统和包括晶片载体和组件的金 属有机化学气相沉积(MOCVD)系统,包括组件的晶片加工机器,
-制造机器和设备,即物理、化学和电子技术设备及其零件,类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统,热沉积源,
-包含用于真空镀膜工艺的离子源和离子源控制器的机器,
-半导体制造机器和磁存储制造机器,包括其组件,
-在半导体生产中高真空下操作并暴露在化学品流中加热的高速旋转盘,
-气体传感器和控制器,用于调节各种制造过程中的气体浓度和/或传质速率,
-用于制造半导体和集成电路的分子束外延坩埚和扩散池,
-用于制造半导体晶片和其他基板的光刻机,包括组件,
-用于原子层沉积系统的半导体晶片加工机,包括其组件,
-由用于退火目的的激光器组成的激光退火系统,包括组件,
-通过触摸屏模式用于离子束系统应用的计算机控制软件,
0729-化学工业用电动机械,
0744-半导体制造机,
0744-半导体制造设备,
0744-半导体晶片加工机,
0744-半导体晶片处理设备,
0744-半导体行业使用蚀刻化学品的半导体单晶片加工机,
0744-电子工业设备,
0745-光学冷加工设备,
0746-气体分离设备
-使用溶剂化学品的半导体单晶片湿法加工机;-光学镀膜离子束机,用于镀膜多层光学薄膜,包括其组件;-制造机器和设备,即包括组件的分子束外延(MBE)系统和包括晶片载体和组件的金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统,包括组件的晶片加工机器;-制造机器和设备,即物理、化学和电子技术设备及其零件,类金刚石碳系统、离子束沉积系统和离子束源、离子束蚀刻系统、物理气相沉积系统、研磨/切割系统,热沉积源;-包含用于真空镀膜工艺的离子源和离子源控制器的机器;-半导体制造机器和磁存储制造机器,包括其组件;-在半导体生产中高真空下操作并暴露在化学品流中加热的高速旋转盘;-气体传感器和控制器,用于调节各种制造过程中的气体浓度和/或传质速率;-用于制造半导体和集成电路的分子束外延坩埚和扩散池;-用于制造半导体晶片和其他基板的光刻机,包括组件;-用于原子层沉积系统的半导体晶片加工机,包括其组件;-由用于退火目的的激光器组成的激光退火系统,包括组件;-通过触摸屏模式用于离子束系统应用的计算机控制软件;0729-化学工业用电动机械;0744-半导体制造机;0744-半导体制造设备;0744-半导体晶片加工机;0744-半导体晶片处理设备;0744-半导体行业使用蚀刻化学品的半导体单晶片加工机;0744-电子工业设备;0745-光学冷加工设备;0746-气体分离设备 - 威科仪器有限公司
- 纽约普莱恩维尤************
- 隆天知识产权代理有限公司
2022-09-03 商标注册申请 | 等待驳回复审
2022-07-09 商标注册申请 | 驳回通知发文
2022-06-09 商标注册申请 | 受理通知书发文
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2022-03-31 商标注册申请 | 申请收文
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