【PAS】商标详情
- PAS
- G1554171
- 待审中
- 普通商标
- 2020-10-08
4209 4209-上述服务与下列领域有关:电子、微光刻、半导体、集成电路、磁域存储器和集成光学系统行业,
4209-工程学,
4209-技术研究,
4209-技术项目研究,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-科学研究
4209-上述服务与下列领域有关:电子、微光刻、半导体、集成电路、磁域存储器和集成光学系统行业;4209-工程学;4209-技术研究;4209-技术项目研究;4209-替他人研究和开发新产品;4209-科学研究 - 2020-08-18-2030-08-18
- ASML NETHERLANDS B.V.
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 国际局
2024-08-08 撤销连续三年停止使用注册商标 | 不予受理通知书发文
2024-07-02 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2021-11-07 国际部分注销 | 申请收文
2021-06-20 国际删减商品 | 申请收文
2021-03-19 驳回复审 | 申请收文
2021-02-05 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2021-02-05 领土延伸 | 驳回电子发文
2020-10-08 领土延伸 | 申请收文
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- 普通商标
- 2020-10-08
4209 4209-上述服务与下列领域有关:电子、微光刻、半导体、集成电路、磁域存储器和集成光学系统行业,
4209-工程学,
4209-技术研究,
4209-技术项目研究,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-科学研究
4209-上述服务与下列领域有关:电子、微光刻、半导体、集成电路、磁域存储器和集成光学系统行业;4209-工程学;4209-技术研究;4209-技术项目研究;4209-替他人研究和开发新产品;4209-科学研究 - 2020-08-18-2030-08-18
- ASML NETHERLANDS B.V.
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 国际局
2024-08-08 撤销连续三年停止使用注册商标 | 不予受理通知书发文
2024-07-02 撤销连续三年停止使用注册商标 | 申请收文
2021-11-07 国际部分注销 | 申请收文
2021-06-20 国际删减商品 | 申请收文
2021-03-19 驳回复审 | 申请收文
2021-02-05 领土延伸 | 等待驳回电子发文
2021-02-05 领土延伸 | 驳回电子发文
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