【HLMC】商标详情
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4209 , 4214 , 4216 4209-光罩的设计,
4209-半导体和集成电路设计(为他人),
4209-半导体晶片的设计,
4209-工程,
4209-工程绘图,
4209-技术研究(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路),
4209-技术研究咨询服务,
4209-技术项目研究,
4209-掩膜片设计,
4209-有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、 晶片和集成电路的定做设计服务,
4209-有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的研究服务(替他人),
4209-研究与开发(替他人),
4209-集成电路的设计,
4214-半导体或集成电路等相关材料及产品的测试,
4214-有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的测试服务,
4214-材料测试(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路),
4214-材料测试咨询服务,
4214-物理研究,
4216-工业品外观设计,
4216-工业品外观设计(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路),
4216-工业品外观设计咨询服务
4209-光罩的设计;4209-半导体和集成电路设计(为他人);4209-半导体晶片的设计;4209-工程;4209-工程绘图;4209-技术研究(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路);4209-技术研究咨询服务;4209-技术项目研究;4209-掩膜片设计;4209-有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的定做设计服务;4209-有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的研究服务(替他人);4209-研究与开发(替他人);4209-集成电路的设计;4214-半导体或集成电路等相关材料及产品的测试;4214-有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路的测试服务;4214-材料测试(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路);4214-材料测试咨询服务;4214-物理研究;4216-工业品外观设计;4216-工业品外观设 计(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路);4216-工业品外观设计咨询服务 - 1315
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2012-10-08 商标注册申请 | 打印注册证
2012-03-14 商标注册申请 | 打印驳回通知
2012-02-20 商标注册申请 | 等待补正回文
2012-02-20 商标注册申请 | 补正回文
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2011-11-18 商标注册申请 | 等待补正回文
2011-11-18 商标注册申请 | 补正回文
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2011-09-26 商标注册申请 | 等待补正回文
2011-09-26 商标注册申请 | 补正回文
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4209-半导体和集成电路设计(为他人),
4209-半导体晶片的设计,
4209-工程,
4209-工程绘图,
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4209-研究与开发(替他人),
4209-集成电路的设计,
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4214-材料测试(有关电气和电子产品、半导体、半导体系统、半导体单元库、晶片和集成电路),
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