【TEMCH】商标详情
- TEMCH
- 53913452
- 已注册
- 普通商标
- 2021-02-27
4209 , 4216 , 4220 4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体设计,
4209-工程设计服务,
4209-替他人开发产品,
4209-集成电路设计,
4216-工业品外观设计,
4216-工业设计,
4216-造型（工业品外观设计）,
4220-电子信息的数据转换
4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-半导体设计;4209-工程设计服务;4209-替他人开发产品;4209-集成电路设计;4216-工业品外观设计;4216-工业设计;4216-造型（工业品外观设计）;4220-电子信息的数据转换 - 1747
- 2021-06-13
- 1759
- 2021-09-14
- 2021-09-14-2031-09-13
- 江苏迪纳科精细材料股份有限公司
- 江苏省南京市************
- 江苏斯越科技有限公司
2022-08-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2022-07-16 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-07-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-01-12 商标注册申请 | 领退信(商标注册证)
2022-01-12 商标注册申请 | 领退信管理
2022-01-12 商标注册申请 | 领退信管理(商标注册证)
2021-12-06 商标注册申请 | 排版送达公告
2021-12-06 商标注册申请 | 排版送达公告(商标注册证)
2021-11-23 商标注册申请 | 有退信
2021-11-23 商标注册申请 | 有退信(商标注册证)
2021-11-23 商标注册申请 | 退信信息录入
2021-11-23 商标注册申请 | 退信信息录入(商标注册证)
2021-11-02 商标注册申请 | 注册证发文
2021-03-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-02-27 商标注册申请 | 申请收文
- TEMCH
- 53913452
- 已注册
- 普通商标
- 2021-02-27
4209 , 4216 , 4220 4209-光学组件的设计,
4209-半导体加工技术研究,
4209-半导体设计,
4209-工程设计服务,
4209-替他人开发产品,
4209-集成电路设计,
4216-工业品外观设计,
4216-工业设计,
4216-造型（工业品外观设计）,
4220-电子信息的数据转换
4209-光学组件的设计;4209-半导体加工技术研究;4209-半导体设计;4209-工程设计服务;4209-替他人开发产品;4209-集成电路设计;4216-工业品外观设计;4216-工业设计;4216-造型（工业品外观设计）;4220-电子信息的数据转换 - 1747
- 2021-06-13
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- 2021-09-14
- 2021-09-14-2031-09-13
- 江苏迪纳科精细材料股份有限公司
- 江苏省南京市************
- 江苏斯越科技有限公司
2022-08-23 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 核准证明打印发送
2022-07-16 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-07-15 变更商标申请人/注册人名义/地址 | 申请收文
2022-01-12 商标注册申请 | 领退信(商标注册证)
2022-01-12 商标注册申请 | 领退信管理
2022-01-12 商标注册申请 | 领退信管理(商标注册证)
2021-12-06 商标注册申请 | 排版送达公告
2021-12-06 商标注册申请 | 排版送达公告(商标注册证)
2021-11-23 商标注册申请 | 有退信
2021-11-23 商标注册申请 | 有退信(商标注册证)
2021-11-23 商标注册申请 | 退信信息录入
2021-11-23 商标注册申请 | 退信信息录入(商标注册证)
2021-11-02 商标注册申请 | 注册证发文
2021-03-18 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-02-27 商标注册申请 | 申请收文
