【LIGHT MATRIX C】商标详情
- LIGHT MATRIX C
- G965749
- 已销亡
- 普通商标
- 2008-07-15
0301 , 0302 , 0303 , 0304 0301-含微生物添加剂的洗衣用漂白剂及其他物料,
0301-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0301-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0301-洗衣用漂白剂及其他物料,
0301-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0302-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0302-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0302-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0303-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0303-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0303-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0304-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0304-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0304-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂
0301-含微生物添加剂的洗衣用漂白剂及其他物料;0301-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0301-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0301-洗衣用漂白剂及其他物料;0301-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0302-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0302-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0302-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0303-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0303-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0303-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0304-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0304-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0304-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂 - 2008-01-18-2018-01-18
- OLIVIA M.WEBER
- 巴塞尔乡村州阿尔施维尔************
- 国际局
2018-08-22 国际注销 | 申请收文
2009-03-25 商标注册申请 | 国际领土延伸完成
2009-03-25 领土延伸 | 审查
2008-11-18 商标注册申请 | 国际更正中
2008-07-15 领土延伸 | 申请收文
送达公告 2018-11-13 第1623期 查看公告
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- 2008-07-15
0301 , 0302 , 0303 , 0304 0301-含微生物添加剂的洗衣用漂白剂及其他物料,
0301-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0301-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0301-洗衣用漂白剂及其他物料,
0301-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0302-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
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0303-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0303-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0303-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0304-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0304-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂,
0304-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂
0301-含微生物添加剂的洗衣用漂白剂及其他物料;0301-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0301-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0301-洗衣用漂白剂及其他物料;0301-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0302-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0302-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0302-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0303-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0303-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0303-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0304-含微生物添加剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0304-含抗氧化剂的清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂;0304-清洁、擦亮、去渍及研磨用制剂 - 2008-01-18-2018-01-18
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