【图形】商标详情
- 图形
- 84788789
- 已初审
- 普通商标
- 2025-04-18
0101 , 0102 , 0103 , 0104 , 0106 0101-半导体用硅,
0101-工业用石墨,
0102-氢氟酸,
0102-氧化锂,
0103-氧化铀,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-矿物质过滤材料,
0104-离子交换剂,
0104-镀锌液,
0106-电泳凝胶
0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0102-氢氟酸;0102-氧化锂;0103-氧化铀;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-矿物质过滤材料;0104-离子交换剂;0104-镀锌液;0106-电泳凝胶 - 1951
- 2025-09-13
- 东莞市盈鑫半导体材料有限公司
- 广东省东莞市************
- 东莞市纬天知识产权服务有限公司
2025-07-10 商标注册申请 | 受理通知书发文
2025-05-17 商标注册申请 | 补正通知发文
2025-04-18 商标注册申请 | 申请收文
商标初步审定公告 2025-09-13 第1951期 查看公告
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0101-工业用石墨,
0102-氢氟酸,
0102-氧化锂,
0103-氧化铀,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料,
0104-矿物质过滤材料,
0104-离子交换剂,
0104-镀锌液,
0106-电泳凝胶
0101-半导体用硅;0101-工业用石墨;0102-氢氟酸;0102-氧化锂;0103-氧化铀;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料;0104-矿物质过滤材料;0104-离子交换剂;0104-镀锌液;0106-电泳凝胶 - 1951
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