【CMP DRY-IN DRY-OUT】商标详情
- CMP DRY-IN DRY-OUT
- G1184217
- 已注册
- 普通商标
- 2013-12-07
0742 0742-用于半导体晶片的化学机械抛光机
0742-用于半导体晶片的化学机械抛光机 - 2023-09-25-2033-09-25
- EBARA CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2023-08-09 国际续展 | 申请核准审核
2023-07-30 国际续展 | 申请收文
2019-03-30 驳回复审 | 商评委发文
2019-03-30 驳回复审 | 等待商评委发文
2017-01-10 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2017-01-10 出具商标注册证明 | 等待核准通知书发文
2016-12-07 出具商标注册证明 | 申请收文
2016-10-19 驳回复审 | 实审裁文发文
2016-10-19 驳回复审 | 等待 实审裁文发文
2015-02-28 商标注册申请 | 驳回复审中
2015-02-28 驳回复审 | 申请收文
2013-12-07 商标注册申请 | 领土延伸中
2013-12-07 领土延伸 | 申请收文
- CMP DRY-IN DRY-OUT
- G1184217
- 已注册
- 普通商标
- 2013-12-07
0742 0742-用于半导体晶片的化学机械抛光机
0742-用于半导体晶片的化学机械抛光机 - 2023-09-25-2033-09-25
- EBARA CORPORATION
- 东京都东京************
- 国际局
2023-08-09 国际续展 | 申请核准审核
2023-07-30 国际续展 | 申请收文
2019-03-30 驳回复审 | 商评委发文
2019-03-30 驳回复审 | 等待商评委发文
2017-01-10 出具商标注册证明 | 核准通知书发文
2017-01-10 出具商标注册证明 | 等待核准通知书发文
2016-12-07 出具商标注册证明 | 申请收文
2016-10-19 驳回复审 | 实审裁文发文
2016-10-19 驳回复审 | 等待实审裁文发文
2015-02-28 商标注册申请 | 驳回复审中
2015-02-28 驳回复审 | 申请收文
2013-12-07 商标注册申请 | 领土延伸中
2013-12-07 领土延伸 | 申请收文
