【NEWRON】商标详情
- NEWRON
- G1436195
- 已销亡
- 普通商标
- 2018-11-22
0901 , 0905 , 0910 0901-用于设计和制造半导体晶片和掩模的计算机硬件和软件,
0905-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具,
0910-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具
0901-用于设计和制造半导 体晶片和掩模的计算机硬件和软件;0905-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具;0910-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具 - ASML NETHERLANDS B.V.
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 国际局
2020-04-09 驳回复审 | 实审裁文发文
2019-11-26 国际放弃 | 申请收文
2019-04-12 驳回复审 | 申请收文
2019-03-29 领土延伸 | 驳回电子发文
2018-11-22 商标注册申请 | 申请收文
2018-11-22 领土延伸 | 申请收文
- NEWRON
- G1436195
- 已销亡
- 普通商标
- 2018-11-22
0901 , 0905 , 0910 0901-用于设计和制造半导体晶片和掩模的计算机硬件和软件,
0905-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具,
0910-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具
0901-用于设计和制造半导体晶片和掩模的计算机硬件和软件;0905-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具;0910-用于测量、检测和检查在制造过程中半导体晶片和掩模的化合物、温度、光成像、厚度、表面、纹理、线宽以及污染的计量和检查工具 - ASML NETHERLANDS B.V.
- 北布拉班特省费尔德霍芬************
- 国际局
2020-04-09 驳回复审 | 实审裁文发文
2019-11-26 国际放弃 | 申请收文
2019-04-12 驳回复审 | 申请收文
2019-03-29 领土延伸 | 驳回电子发文
2018-11-22 商标注册申请 | 申请收文
2018-11-22 领土延伸 | 申请收文
