【CS MICROELECTRONICS CO.， LTD】商标详情
- CS MICROELECTRONICS CO.， LTD
- 55745365
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-30
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-砷,
0101-磷,
0101-镓,
0102-砷化镓,
0102-磷化铟,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-砷;0101-磷;0101-镓;0102-砷化镓;0102-磷化铟;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1815
- 2022-11-13
- 1827
- 2023-02-14
- 2023-02-14-2033-02-13
- 威科赛乐微电子股份有限公司
- 重庆市重庆市************
- 北京集佳知识产权代理有限公司
2023-03-08 驳回复审 | 打印注册证
2022-06-30 驳回复审 | 实审裁文发文
2022-02-16 驳回复审 | 评审分案
2021-09-11 驳回复审 | 申请收文
2021-09-10 驳回复审 | 申请收文
2021-08-14 商标注册申请 | 驳回通知发文
2021-05-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-30 商标注册申请 | 申请收文
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- 55745365
- 已注册
- 普通商标
- 2021-04-30
0101 , 0102 , 0104 0101-半导体用硅,
0101-工业硅,
0101-砷,
0101-磷,
0101-镓,
0102-砷化镓,
0102-磷化铟,
0104-半导体制造用蚀刻剂,
0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料
0101-半导体用硅;0101-工业硅;0101-砷;0101-磷;0101-镓;0102-砷化镓;0102-磷化铟;0104-半导体制造用蚀刻剂;0104-半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料 - 1815
- 2022-11-13
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2021-09-11 驳回复审 | 申请收文
2021-09-10 驳回复审 | 申请收文
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2021-05-25 商标注册申请 | 受理通知书发文
2021-04-30 商标注册申请 | 申请收文
