
【JIWEI】商标详情

- JIWEI
- 79375266
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-21
4209 , 4220 , 4227 4209-撰写科技文稿,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-质量控制,
4209-集成电路的设计,
4220-为他人提供计算机软件设计,
4220-平台即服务(PaaS),
4220-计算机软件设计,
4220-软件设计和开发,
4227-平面美术设计,
4227-平面设计
4209-撰写科技文稿;4209-替他人研究和开发新产品;4209-质量控制;4209-集成电路的设计;4220-为他人提供计算机软件设计;4220-平台即服务(PaaS);4220-计算机软件设计;4220-软件设计和开发;4227-平面美术设计;4227-平面设计 - 1917
- 2024-12-27
- 1929
- 2025-03-28
- 2025-03-28-2035-03-27
- 爱集微(上海)科技有限公司
- 上海市上海市************
- 深圳市嘉勤知识产权代理有限公司
2025-04-19 商标注册申请 | 注册证发文
2024-12-13 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-10-19 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-07-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-21 商标注册申请 | 申请收文
- JIWEI
- 79375266
- 已注册
- 普通商标
- 2024-06-21
4209 , 4220 , 4227 4209-撰写科技文稿,
4209-替他人研究和开发新产品,
4209-质量控制,
4209-集成电路的设计,
4220-为他人提供计算机软件设计,
4220-平台即服务(PaaS),
4220-计算机软件设计,
4220-软件设计和开发,
4227-平面美术设计,
4227-平面设计
4209-撰写科技文稿;4209-替他人研究和开发新产品;4209-质量控制;4209-集成电路的设计;4220-为他人提供计算机软件设计;4220-平台即服务(PaaS);4220-计算机软件设计;4220-软件设计和开发;4227-平面美术设计;4227-平面设计 - 1917
- 2024-12-27
- 1929
- 2025-03-28
- 2025-03-28-2035-03-27
- 爱集微(上海)科技有限公司
- 上海市上海市************
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2025-04-19 商标注册申请 | 注册证发文
2024-12-13 商标注册申请 | 等待驳回复审
2024-10-19 商标注册申请 | 驳回通知发文
2024-07-11 商标注册申请 | 受理通知书发文
2024-06-21 商标注册申请 | 申请收文


